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技術文章

關于XRF檢測儀的分析說明

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　　X射線熒光光譜(XRF)具有干擾小、分析速度快、并且可以同時進行多元素分析等優點，是固體物質成分分析的常規檢測手段，也是一種重要的表面/表層分析方法。XRF分析儀具有快速、無損等特點，因此被廣泛應用于材料檢測與分析領域。
 
　　X射線熒光光譜儀是一種元素分析工具，幾十年來一直是檢測實驗室的主要分析儀器之一。這種多樣化的無損檢測方法只需要很少的樣品制備工作，并且對操作人員的經驗要求并不是太高，而且，該檢測技術還可以快速提供準確的檢測結果。
 
　　X射線熒光(XRF)是用高能量X射線或伽瑪射線轟擊材料時激發出的次級X射線。這種現象被廣泛用于元素分析和化學分析，特別是在金屬，玻璃，陶瓷和建材的調查和研究，地球化學，考古學和藝術品，例如油畫和壁畫。
 
　　原理：
 
　　當物質受到入射X射線的輻射時，其中的原子會吸收入射X射線的能量，然后再以熒光的形式重新輻射出來。
 
　　不同元素對應不同的熒光信號，通過測量和分析這些熒光信號的能量和強度，可以準確判斷樣品中所含有的元素。
 
　　XRF分析儀的主要構成部分包括X射線發生器、樣品臺、熒光探測器和數據處理系統。
 
　　X射線發生器負責產生入射X射線，樣品臺用于放置待測樣品，熒光探測器則用于測量熒光發射信號，數據處理系統負責對測量結果進行分析和處理。
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